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铸铁件热处理状态的名称及代号(摘自GB/T 5614-1985)
铸铁件热处理状态的名称及代号和定义
注：1.Ac1z：在加热过程中，铁素体完全转变成奥氏体的温度。
2.Ar1z：在冷却过程中，奥氏体完全转变成珠光体和铁索体的温度。
3.Ac1s：在加热过程中，奥氏体开始形成的温度。
4.铸铁件基本热处理状态名称的代号，用其状态名称的汉语拼音的第一个大写正体字母表示。当两种以上名称的代号字母相同时，可在其后再取一个小写字母予以区分。其代号置于小括号“()”内标注在铸铁牌号后面。
5.当某种铸铁进行几种热处理时，可按照工艺顺序依次标注状态的名称代号，并用圆点“·”隔开。
6.基本热处理状态需要细分时，可用跟在基本热处理名称的代号后面的阿拉伯数字表示细分状态。如果还需要细分，仍可用阿拉伯数字再进行细分，两数字之间必须用横线“-”隔开。
7.示例灰铸铁，人工时效态表示为HT200(S1)；球墨铸铁，正火回火态表示为QT700—2(Zh·H)；球墨铸铁，完全奥氏体化下贝氏体等温淬火态表示为QT1200-1(D1-2)。
| 名称 | 代号 | 定义 |
|---|---|---|
| 铸态 | Z | 铸件未经任何热处理的状态 |
| 退火态 | T |
高温石墨化退火态：铸态组织有共晶渗碳体、自由碳化物的铸件、加热到AC1Z温度以上,保温，然后炉冷至室温或炉冷至Ar1Z温度以下空冷，获得珠光体，珠光体+铁素体基体组织 低温石墨化退火态：铸态组织中为珠光体和石墨或珠光体、铁素体和石墨的铸件，加热到稍低于AC1S温度保温，然后炉冷至室温或炉冷至Ar1Z温度以下空冷，获得铁素体为主的基体组织 |
| 正火态 | Zh |
完全奥氏体化正火态：铸件加热到AC1S以上，使基体全部转变成奥氏体后，出炉空冷、风冷或雾冷，获得珠光体为主的基体组织 低碳奥氏体化正火态：铸件加热到略低于AC1S温度保温，然后快速加热到高于AC1Z某一温度不保温，出炉空冷、风冷或雾冷，获得珠光体或珠光体与少量铁素体基本组织 部分奥氏体化正火态：铸件加热到AC1S与AC1Z间保温，出炉空冷，风冷或雾冷，获得珠光体与铁索体基体组织 |
| 淬火态 | C |
完全奥氏体化淬火态：铸件加热到AC1Z以上保温，使基体全部转化成奥氏体后，出炉淬人冷却介质中，获得以马氏体为主的基体组织 低碳奥氏体化淬火态：铸件加热到低于AC1S温度，保温，然后快速加热到高于AC1Z，某一温度不保温，出炉淬人冷却介质中，获得以马氏体或马氏体与少量屈氏体为主的基体组织 部分奥氏体化淬火态：铸件加热到AC1S与AC1Z问的某一温度，保温，然后出炉淬人冷却介质中，获得马氏体与一定量铁素体为主的基体组织 |
| 回火态 | H |
高温回火态：淬火(或正火)后的铸件，加热到500～600℃，保温，出炉空冷，获得回火素氏体基体组织(或稳定化组织) 中温回火态：淬火后铸件，加热到350～500℃保温，出炉空冷，获得回火屈氏体基体组织 低温回火态：淬火后铸件加热到140～250℃温度，保温，出炉空冷，获得回火马氏体基体组织 |
| 等温淬火态 | D |
完全奥氏体化等温淬火：铸件加热到AC1Z以上，保温，使基体全部转变成奥氏体后，出炉淬火温度处于Ar1Z以下某一温度的恒温浴中，保温，取出水冷或空冷，获得以贝氏体为主基体组织 低碳奥氏体化等温淬火态：铸件加热到略低于AC1S温度，保温，然后快速加热到高于AC1Z某一温度，不保温，出炉淬入温度处于Ar1Z以下某一温度的恒温浴中保温，取出水冷或空冷，获得贝氏体或贝氏体或少量屈氏体为主基体组织 部分奥氏体化等温淬火态：铸件加热到AC1S与AC1Z间某一温度保温，然后淬入温度处于Ar1Z以下某一温度的恒温浴中保温，取出水冷或空冷，获得贝氏体与铁素体基体组织 |
| 时效态 | S |
人工时效态：铸件加热到塑性变形某一温度范围内(一般为500～600℃)保温，缓慢炉冷到300℃以下，出炉空冷，以降低铸造残余应力 自然时效态：铸件在常温下长期放置6个月以上，以降低铸造残余应力 |
| 表面淬火态 | B |
铸件表面快速加热到AC1Z温度以上，快速冷却，获得铸件表层以马氏体为主的基体组织 由于加热方法不同通常分为火焰加热表面淬火，感应加热表面淬火，电接触加热表面淬火 |
| 化学热处理态 | Hu | 铸件放在某种化学介质中通过加热、保温、冷却三阶段，使介质中的某些元素（如氮、硼等）渗入铸件表面，发生组织和成分变化，获得特殊物化性能和力学性能 |
细分基本热处理状态的代号
| 状态 | 名称 | 代号 |
|---|---|---|
| 细分退火态 | 低温石墨化退火态 | T2 |
| 细分正火态 | 完全奥氏体化正火态 | Z1 |
| 细分正火态 | 低碳奥氏体化正火态 | Z2 |
| 细分正火态 | 部分奥氏体化正火态 | Z3 |
| 细分淬火态 | 完全奥氏体淬火态 | C1 |
| 细分淬火态 | 低碳奥氏体淬火态 | C2 |
| 细分淬火态 | 部分奥氏体淬火态 | C3 |
| 细分等温淬火态 | 完全奥氏体化等温淬火态 | D1 |
| 细分等温淬火态 | 低碳奥氏体化等温淬火态 | D2 |
| 细分等温淬火态 | 部分奥氏体化等温淬火态 | D3 |
| 细分等温淬火态 | 完全奥氏体化上贝氏体等温淬火态 | D1-1 |
| 细分等温淬火态 | 完全奥氏体化下贝氏体等温淬火态 | D1-2 |
| 细分等温淬火态 | 低碳奥氏体化上贝氏体等温淬火态 | D2-1 |
| 细分等温淬火态 | 低碳奥氏体化下贝氏体等温淬火态 | D2-2 |
| 细分等温淬火态 | 部分奥氏体化上贝氏体等温淬火态 | D3-1 |
| 细分等温淬火态 | 部分奥氏体化下贝氏体等温淬火态 | D3-2 |
| 细分回火态 | 高温回火态 | H1 |
| 细分回火态 | 中温回火态 | H2 |
| 细分回火态 | 低温回火态 | H3 |
| 细分时效态 | 人工时效态 | S1 |
| 细分时效态 | 自然时效态 | S2 |
| 细分表面淬火态 | 火焰加热表面淬火态 | B1 |
| 细分表面淬火态 | 感应加热表面淬火态 | B2 |
| 细分表面淬火态 | 高频感应加热表面淬火态 | B2-1 |
| 细分表面淬火态 | 中频感应加热表面淬火态 | B2-2 |
| 细分表面淬火态 | 电接触加热表面淬火态 | B3 |
| 细分化学热处理态 | 渗氮态 | Hμ1 |
| 细分化学热处理态 | 氮碳共渗态 | Hμ2 |
| 细分化学热处理态 | 渗硼态 | Hμ3 |
